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資料情報
| タイトル | フォトマスク技術のはなし |
|---|---|
| タイトルヨミ | ﾌｫﾄﾏｽｸ ｷﾞｼﾞｭﾂ ﾉ ﾊﾅｼ |
| サブタイトル | 超LSI、液晶、プリント板を支える |
| サブタイトルヨミ | ﾁｮｳｴﾙｴｽｱｲ ｴｷｼｮｳ ﾌﾟﾘﾝﾄﾊﾞﾝ ｵ ｻｻｴﾙ |
| 著者 | 田辺 功／[ほか]共著 |
| 著者ヨミ | ﾀﾅﾍﾞ,ｲｻｵ |
| 出版者 | 工業調査会 |
| 出版者ヨミ | ｺｳｷﾞｮｳ ﾁｮｳｻｶｲ |
| 本体価格 | ¥3000 |
| 内容紹介 | フォトマスクは透明なガラス板の上に電子回路のパターンを光を通さない材料で形成した部品である。LSIなどの生産に欠かせないこの技術を紹介する。 |
| ＩＳＢＮ | 4-7693-1149-4 |
| ページ数等 | 262p |
| 大きさ | 21cm |
| NDC分類 | 549.7 |
所蔵情報
| 登録番号 | 所蔵館 | 所蔵場所 | 請求記号 | 資料区分 | 禁帯区分 | 資料状態 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 081008027 | 中川 | 閉架 | 549 ﾌ | 一般 | 貸出可 |
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